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實驗室設備定制廠家,大氣壓下介質阻擋均勻放電(DBD)簡介

2020-07-30 09:53:47

     實驗室設備定制廠家近20年來,氣體放電產生的低溫等離子體得到了越來越廣泛的應用,等離子體處理技術營運而生。而DBD可以在大氣壓下產生等離子體,特別適合低溫等離子體的工業化應用。

    眾所周知,大氣壓下的氣體放電的幾種常見形式是電暈放電、電弧放電、介質阻擋絲狀放電。近年來,人們還發現了所謂的大氣壓下的輝光放電。由于輝光放電具有放電均勻和功率密度適中的優點,尤其適用于等離子體材料表面處理。如何在大氣壓下得到大面積的均勻放電是近年來是氣體放電領域的難點和熱點。

    使用DBD結構是獲得大氣壓下輝光放電的最方便、最具有可行性的手段。實驗室設備定制廠家因為其它幾種放電不適合產生大面積均勻等離子體。電暈放電功率小,放電范圍小。電弧放電功率密度高、溫度高,容易對無題表面造成燒蝕。于是DBD放電便具有了獨特的優勢。

    DBD是將絕緣介質插入氣體間隙的一種放電形式,又稱其為無聲放電。DBD電極結構主要有平行平板和線筒兩種結構,如下圖所示。

實驗室設備定制廠家 

介質阻擋放電的典型電極結構

    大氣壓下DBD一般是絲狀流柱放電,由于其不均勻性,不能用于對材料的表面處理。實驗室設備定制廠家如何產生大氣壓下的均勻放電是一個重要的研究方向。

    1987年日本Kanazawa采用介質阻擋電極結構,在含氦氣的大氣壓下獲得了均勻的大氣壓下的輝光放電,這使人們看到了在大氣壓條件下獲得輝光放電的可能性。

    總之,實驗室設備定制廠家氣體放電等離子體表面處理技術具有誘人的應用前景,但缺乏大氣壓均勻放電等離子源的現狀,嚴重阻礙了等離子體表面處理技術的工業化應用。因此對大氣壓下的均勻放電技術進行研究具有重要的意義。


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